>レジスト用モノマー中間体

レジスト用モノマー中間体

  • HPAA

    【品名】HPAA

    【CAS】13579-23-2

  • TBAA

    【品名】TBAA

    【CAS】13579-30-1

  • HPMA

    【品名】HPMA

    【CAS】31480-93-0

    【化合物】4-ヒドロキシフェニルメタクリレート

  • THTO

    【品名】THTO

    【CAS】19576-38-6

  • 【開発趣旨】
    フォトレジストポリマーとして用いるモノマーの中間体
    (水酸基をBoc基、ベンジル基、保護基を用いることによってポリマー化を行うことができ、その後、保護基を取り除くことによってポリマーの枝に水酸基を残します。)
    水酸基をアルキル化することで別のモノマーとしても使用できます。
    フォトレジストとして性能を下げてしまう着色をなくすことができます。

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